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  • GMSD2000納米二氧化硅濕法高剪切分散機(jī)
    納米二氧化硅濕法高剪切分散機(jī)

    納米二氧化硅濕法高剪切分散機(jī)、改性納米二氧化硅高速分散機(jī)、氧化鋅改性二氧化硅分散機(jī)、二氧化硅高速剪切分散機(jī)、管線式高剪切分散機(jī)、納米二氧化硅設(shè)備、氣相二氧化硅剪切分散機(jī)、德國進(jìn)口分散機(jī)、沉淀法二氧化硅高剪切分散機(jī)

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  • GRS2000不飽和樹脂高速分散機(jī)
    不飽和樹脂高速分散機(jī)

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  • GMSD2000炭黑高速剪切分散機(jī)
    炭黑高速剪切分散機(jī)

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  • GRS2000膨脹石墨漿料分散機(jī)
    膨脹石墨漿料分散機(jī)

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  • GRS2000油漆納米分散機(jī)
    油漆納米分散機(jī)

    油漆納米分散機(jī),油漆高速分散機(jī)德國油漆納米分散是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。

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  • GRS2000墨水納米分散機(jī)
    墨水納米分散機(jī)

    墨水納米分散機(jī)是顆粒細(xì)化到納米級(jí)后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時(shí),表面原子比例高達(dá)90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。

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  • GMD2000頭孢他啶注射液三級(jí)納米分散機(jī)
    頭孢他啶注射液三級(jí)納米分散機(jī)

    頭孢他啶注射液三級(jí)納米分散機(jī)采用德國的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動(dòng)技術(shù),將德國的膠體磨技術(shù)與德國的超高速分散機(jī)技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

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  • GMD2000玻尿酸注射劑納米分散機(jī)
    玻尿酸注射劑納米分散機(jī)

    玻尿酸注射劑納米分散機(jī)集成度高,可測(cè)量反應(yīng)過程的溫度、壓力等條件的變化;可配備多種高效宏觀攪拌器、高剪切均質(zhì)乳化機(jī)以及可靠地真空密封系統(tǒng)和溫控系統(tǒng)

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