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  • GMSD2000藥物晶種濕法研磨分散機
    藥物晶種濕法研磨分散機

    藥物晶種濕法研磨分散機,目前許多結晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達到要求的細度,結合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機進行晶種研磨細化處理,轉速18000rpm,膠體磨+分散機一體化設備,粒徑可達D90≤10μm。

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  • GMD2000氮化硼超細研磨分散機
    氮化硼超細研磨分散機

    SGN氮化硼超細研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

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  • GRS2000/4濕法涂覆隔膜漿料分散機價格
    濕法涂覆隔膜漿料分散機價格

    濕法涂覆隔膜漿料分散機價格是由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復

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  • GRS2000/4彩色顯影劑超高速分散機
    彩色顯影劑超高速分散機

    彩色顯影劑超高速分散機是電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化均質分散的效果。

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  • GRS2000/4濕法涂覆隔膜漿料分散機
    濕法涂覆隔膜漿料分散機

    濕法涂覆隔膜漿料分散機工作原理是由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復

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