【GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機列的特點】 ①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。②該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。③三級研磨分散機由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
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【GMD2000系列研磨分散機在電子廢料處理中的作用】
面對浮油的問題，上海思峻技術(shù)員們根據(jù)這部分客戶的需要，研發(fā)生產(chǎn)出GMD2000系列的研磨分散機，將電子廢料通過清洗劑，表面活性劑處理后，在用GMD2000研磨分散機處理一邊，處理之后浮油可以乳化掉，直接排放。更有利于環(huán)境保護。
【電子廢液GMD2000系列研磨分散機的工作原理】
電子廢液GMD2000系列研磨分散機就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相（液體、固體、氣體）進入到另一互不相溶的連續(xù)相（通常是液體）的過程。而在通常情況下各個相是互不相溶的。當外部能力輸入時，兩種物料重組成為均一相。由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用，形成懸乳液、乳液和泡沫。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復，zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
【GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機列的特點】
①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
②該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。
③三級研磨分散機由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
【電子廢液GMD2000系列研磨分散機設備選型表】
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GMD2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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