氧化鋅薄膜高剪切納米分散機

透明導(dǎo)電薄膜是一種兼?zhèn)涓邔?dǎo)電及可見光波段高透明特性的基礎(chǔ)光電材料，廣泛應(yīng)用于顯示器、發(fā)光器件、太陽能電池、傳感器、柔性觸摸屏等光電顯示領(lǐng)域，具有廣泛的商業(yè)應(yīng)用前景。

分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行?？梢蕴幚砹看?，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料****通過分散剪切。

一種性能優(yōu)異的氧化鋅薄膜的制備方法，該方法包括如下步驟：

（1）對聚酯基底進(jìn)行等離子體表面處理

將柔性聚酯基底放入含有一定洗潔劑的去離子水中，在去離子水中超聲10-15min；然后，用柔軟干凈的毛刷逐一對柔性聚酯基底的正反面進(jìn)行洗刷以去除基底表面的污垢和油污，之后，用去離子水反復(fù)沖洗基底，直至基底無泡沫為止；接著，將柔性聚酯放入乙醇中超聲10-15min，以去除基底表面的有機物，之后，用去離子水反復(fù)沖洗基底4-6次；接著，將柔性聚酯基底進(jìn)行去離子水超聲25-30mins，然后，將容器中超聲后的去離子水倒出，加入新的去離子水；**，將潔凈的柔性聚酯從去離子水中逐一取出平鋪在潔凈的大號培養(yǎng)皿上，一起放進(jìn)溫度為55-60℃的潔凈烘箱內(nèi)進(jìn)行烘烤24-30h；

將清洗、干燥后的柔性聚酯基底放入磁控濺射機的腔體內(nèi)，關(guān)閉磁控濺射機的所有閥門、窗口、所有靶材正下方的濺射擋板，對腔體進(jìn)行抽真空，至3×10-4-5×10-4pa；

將反濺射擋板旋轉(zhuǎn)至柔性聚酯基底的正上方，通入氬氣和氧氣，調(diào)節(jié)聚酯基底與反濺射擋板的間距，設(shè)定相應(yīng)的氬氧比例、總體氣體流量、工作氣壓、濺射功率和等離子體處理時間，對柔性聚酯基底表面進(jìn)行反濺射等離子體處理；

（2）制備導(dǎo)電溶膠

將二水合醋酸鋅溶解在溶劑中，使鋅離子的摩爾濃度為0.5-1mol/L，在30-35℃條件下攪拌至溶解后，向溶液中依次加入穩(wěn)定劑和硫酸鋁，**爾比，Al3+:Zn2+＝0.02-0.03:1，混合溶液在75-85℃的水浴中恒溫攪拌4-5h，所得混合溶液在室溫下陳化25-30h，得到導(dǎo)電溶膠；

（3）將導(dǎo)電溶膠，使用旋涂法在上述經(jīng)等離子表面處理后的聚酯基底上制備氧化鋅凝膠薄膜，將得到氧化鋅凝膠薄膜在空氣中，100-105℃條件下干燥10-20分鐘；接著在空氣中，450-500℃條件下熱處理10-20分鐘，得到氧化鋅薄膜。

高速剪切均質(zhì)分散機主要應(yīng)用于處理大量生成超細(xì)懸乳液。由于同時用三個均質(zhì)頭(轉(zhuǎn)子和定子)進(jìn)行處理，可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒，因而生成的混合液的穩(wěn)定性更好。分散頭容易更換,適合于各種不同的應(yīng)用。不同的機器都有相同的轉(zhuǎn)速和剪切率，這樣便于規(guī)模擴產(chǎn)。符合CIP和SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn),因此特別適合于食和藥品生產(chǎn) 

三級高剪切分散機器，主要用于微乳液及超細(xì)懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭（定子+轉(zhuǎn)子）同時工作，乳液經(jīng)過高剪切后，液滴更細(xì)膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同工藝應(yīng)用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大規(guī)?；a(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn)，適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。

 
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高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)為懸浮乳液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，其剪切速率可以超過15000rpm，轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號表供參考：

氧化鋅薄膜高剪切納米分散機